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集成电路布图设计权是一项独立的知识产权，是权利持有人对其布图设计进行复制和商业利用的专有权利。布图设计权的主体是指依法能够取得布图设计专有权的人，通常称为专有权人或权利持有人。
布图设计专有权的取得方式通常有以下三种：登记制；有限的使用取得与登记制相结合的方式；自然取得制。关于布图设计权的保护期，各国法律一般都规定为10年。根据《关于集成电路的知识产权条约》的要求，布图设计权的保护期至少为8年。《知识产权协议》所规定的保护期则为10年。我国《集成电路布图设计保护条例》第十二条[1]规定，布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受该条例保护。
申请流程
提供布图图纸及申请材料样本——委托书——提交（营业执照复印件、身份证复印件）——交费——受理——审查——证书
所需手续：
1．申请人资质：
�。�1）大陆公司申请：营业执照（副本）复印件一张（要求执照号清晰）并加盖公章（可以为扫描文档）
�。�2）大陆个人申请：身份证复印件一张并签名
2．准备资料：
�。�1）图像：清晰的布层图，（如果图层无法打印的，直接提供电子件）。
�。�2）图层目录
�。�3）已在销售的，要提供芯片的样本，为销售的不用提供
所需时间
1、提出申请后15天，国家集成电路布图设计中心下发《受理通知书》
2、申请后3个月，下发正式《集成布图设计登记证书》
3、保护期为10年
